所属机构 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
所属平台 中科院苏州纳米所测试分析平台
服务详情
应用行业服务领域:专业技术服务业 规格型号:STS MPX HRM System 生产厂商:美国STS 仪器价值:250万元 放置地址:苏州纳米所 收费标准:900元/小时,30分钟为基本时间单元 技术指标及功能:通入反应气体使用电感耦合等离子体辉光放电将其分解,产生的具有强化学活性的等离子体在电场的加速作用下移动到样品表面,对样品表面既进行化学反应生成挥发性气体,又有一定的物理刻蚀作用。因为等离子体源与射频加速源分离,所以等离子体密度可以更高,加速能力也可以加强,以获得更高的刻蚀速率,以及更好的各向异性刻蚀。该系统使用了F基的刻蚀气体,具有Bosch工艺,适合于对硅材料进行大深宽比刻蚀。 技术指标 ICP离子源:0-3000W RF射频源:0-600W 装片系统:六英寸,向下兼容 基底刻蚀温度:0℃-200℃可调。 刻蚀气体:SF6、C4F8、O2、Ar 可刻蚀材料包括:硅材料